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2008年02月期 -测量法创新帮助半导体生产商节省大量开支
Russell Hajdaj 在准备即将进行"焙制"的硅晶片,该过程是生产新型半导体器件流程的一部分。图片: NIST图片版权所有人Robert Rathe.
Gaithersburg, MD —美国国家标准技术研究所(NIST)的最高报告显示,在高科技领域,对测量科学的投入已经且将继续在创新、生产、发展和竞争方面取得巨大的成果。可在NIST网站上获得这篇名为《测量法对半导体行业的经济影响》的报告(网址如下)。

以半导体行业为切入点,在向NISTC提供的分析中,根据RTI International的估算,到2011—年,自1996年开始的为期十年的对推动测量能力发展的120亿美元的投入将在废品和返工成本方面为该领域节约510亿美元,净利润约为390亿美元。

投资收益率:330%
根据RTI的估算,总的来说,每在测量法上投资一美元,行业可获得3.3美元的回报。(美元数额根据通货膨胀的调整表示2006年的美元水平)。该报告显示,由芯片生产商和投资者构成的团队《国际半导体技术蓝图》(ITRS)对所追求的测量技术的战略性关注,通过减少瑕疵率和形体尺寸小型化,可使行业和消费者从中受益,其中,这一努力取得的进步导致了成本下降、产品质量的提高和加工速率的不断提升。

测量技术使得行业能够紧跟"摩尔定律",摩尔定律曾预言计算机芯片的晶体管的集成密度将每年增长一倍。

到二十世纪九十年代初期,行业意识到,没有实现纳米刻度尺寸的能力,行业就不可能达到这一标准。报告认为国际半导体技术蓝图中描述的发展纳米刻度技术能力的战略有助于生产厂商在提升芯片质量、设计、软件和互用性的同时尽可能地增加每个芯片中晶体管的数量,从1996年的310万增长到2006年的17亿。

该报告强调了测量科学对半导体行业的重要性,着重强调了行业稳步发展需要进一步改进的几个领域,这些领域包括需要测量长度为32纳米的新标准、控制无线电频率电磁能和高频磁场的新技术、更佳的化学品和材料标准以及更新的、更精确的校准、互用和测试标准。通过调查和其它手段,RTI为此分析收集了大量的信息,超过80%的半导体行业机构对询问给予了响应,因此,分析结果对整个行业具有代表性,RTI认为分析结果是保守的,因为它在分析中量化评估了生产能力的影响,而没有对质量的提升做量化评估。


欲了解更多详情,请访问:
http://www.nist.gov;/ 阅读 "半导体工业测试的经济影响"。访问NIST网站:http://www.nist.gov/director/planning/policy_studies.htm

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